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L'étude de cas ZMSH: le premier fournisseur de saphirs synthétiques de haute qualité
L'étude de cas ZMSH: le premier fournisseur de saphirs synthétiques de haute qualité     Introduction au projetZMSH est un nom de premier plan dans l'industrie des pierres précieuses synthétiques, fournissant une large gamme de saphirs de haute qualité et aux couleurs vives.Notre offre comprend une large palette de couleurs comme le bleu royal, rouge vif, jaune, rose, rose-orange, violet et plusieurs tons verts, y compris l'émeraude et le vert olive.La ZMSH est devenue un partenaire privilégié pour les entreprises qui ont besoin deDes pierres précieuses synthétiques durables. Des pierres précieuses synthétiquesAu cœur de la gamme de produits de ZMSH sont des saphirs synthétiques qui imitent la brillance et la qualité des pierres précieuses naturelles tout en offrant de nombreux avantages.Ces saphirs sont soigneusement fabriqués pour obtenir une consistance de couleur exceptionnelle et une durabilité, ce qui en fait une alternative supérieure aux pierres naturelles. Les bienfaits du saphir synthétique Une cohérence inégaléeNos saphirs fabriqués en laboratoire sont produits dans des conditions contrôlées, ce qui garantit une qualité impeccable.sans les variations de couleur et de clarté souvent observées dans les pierres précieuses extraites. Sélection de couleurs: ZMSH offre une gamme diversifiée de couleurs, y compris bleu royal, rouge rubis, et des tons plus doux comme rose et rose-orange.adaptés aux exigences spécifiques des clientsCette flexibilité dans la personnalisation des couleurs et des tons rend nos saphirs parfaits pour un large éventail de conceptions et d'utilisations industrielles. Des prix abordables: Les saphirs cultivés en laboratoire offrent une alternative moins coûteuse sans sacrifier l'attrait visuel ou l'intégrité structurelle.Ils offrent une excellente valeur pour les clients qui ont besoin de pierres précieuses de haute qualité à une fraction du coût des pierres naturelles, ce qui les rend idéales à la fois pour les produits de luxe et les applications pratiques. Saine pour l'environnement et pour l'éthique: En optant pour des pierres précieuses synthétiques, les clients peuvent éviter les dommages environnementaux et les préoccupations éthiques souvent associées à l'extraction traditionnelle de pierres précieuses.Les saphirs synthétiques de ZMSH sont créés de manière écologique, offrant un choix durable et responsable. Forte et polyvalente: Les saphirs synthétiques ont la même dureté que leurs homologues naturels, ce qui les rend idéaux pour une variété d'utilisations, des bijoux haut de gamme aux applications industrielles.Avec une dureté de 9 sur l'échelle de Mohs, ces pierres précieuses assurent une durabilité durable dans tous les contextes   ConclusionZMSH se consacre à la fourniture de saphirs synthétiques de couleur de premier ordre, offrant aux clients une gamme de solutions de pierres précieuses personnalisables, rentables et durables.Que vous cherchiez du bleu royal pour des accessoires élégants, vert émeraude pour les composants industriels, ou toute autre couleur frappante, ZMSH fournit des pierres précieuses qui combinent beauté, consistance et résistance.Notre expertise dans la production de saphirs synthétiques nous permet de répondre aux besoins de diverses industries, assurant une qualité fiable et des pratiques éthiques dans chaque commande.
Étude de cas: La percée de ZMSH avec le nouveau substrat 4H/6H-P 3C-N SiC
Introduction au projet ZMSH a toujours été à l'avant-garde de l'innovation en matière de plaquettes et de substrats en carbure de silicium (SiC), connue pour ses performances élevées6H-SiCet4H-SiCEn réponse à la demande croissante de matériaux plus performants dans les applications à haute puissance et à haute fréquence,ZMSH a élargi son offre de produits avec l'introduction de la4H/6H-P 3C-N SiCCe nouveau produit représente un bond technologique important en combinant lesSiC de type poly 4H/6Hdes substrats avec des caractéristiques innovantes3C-N SiCLes films offrent un nouveau niveau de performance et d'efficacité pour les appareils de nouvelle génération. Résumé des produits existants: Substrats 6H-SiC et 4H-SiC Principales caractéristiques Structure cristalline: Le 6H-SiC et le 4H-SiC possèdent des structures cristallines hexagonales.considérant que le 4H-SiC possède une mobilité électronique plus élevée et une bande passante plus large de 3.2 eV, ce qui le rend adapté aux applications à haute fréquence et à haute puissance. Conductivité électrique: Disponible en version N et en version semi-isolante, ce qui permet une flexibilité pour les différents besoins du dispositif. Conductivité thermique: Ces substrats présentent des conductivités thermiques allant de 3,2 à 4,9 W/cm·K, ce qui est essentiel pour dissiper la chaleur dans des environnements à haute température. Résistance mécanique: Les substrats présentent une dureté de Mohs de 9.2, offrant robustesse et durabilité pour une utilisation dans des applications exigeantes. Utilisations typiques: couramment utilisé dans l'électronique de puissance, les appareils à haute fréquence et les environnements nécessitant une résistance aux températures élevées et aux rayonnements. Les défisPendant que6H-SiCet4H-SiCIls rencontrent certaines limitations dans des scénarios spécifiques à haute puissance, haute température et haute fréquence.La réduction de l'écart de bande et la réduction de l'écart de bande limitent leur efficacité pour les applications de nouvelle génération.Le marché exige de plus en plus des matériaux avec des performances améliorées et moins de défauts pour assurer une plus grande efficacité opérationnelle. Nouvelles innovations en matière de produits: Substrats de SiC 4H/6H-P 3C-N Pour surmonter les limites de ses anciens substrats SiC, ZMSH a développé le4H/6H-P 3C-N SiCCe nouveau produit tire parti decroissance épitaxienned'une épaisseur n'excédant pas 10 mmSubstrats de polytype 4H/6H, offrant des propriétés électroniques et mécaniques améliorées. Les principales améliorations technologiques Polytypes et intégration de filmsLe3C-SiCles films sont cultivés par épitaxie en utilisantdépôt de vapeur chimique (CVD)surSubstrats de 4H/6H, ce qui réduit considérablement le déséquilibre du réseau et la densité des défauts, ce qui améliore l'intégrité du matériau. Mobilité améliorée des électronsLe3C-SiCLe film offre une mobilité électronique supérieure par rapport à laSubstrats de 4H/6H, ce qui le rend idéal pour les applications à haute fréquence. Amélioration de la tension de rupture: Les essais indiquent que le nouveau substrat offre une tension de rupture nettement plus élevée, ce qui le rend plus adapté aux applications à forte consommation d'énergie. Réduction des défauts: Les techniques de croissance optimisées minimisent les défauts et les dislocations des cristaux, assurant ainsi une stabilité à long terme dans des environnements difficiles. Capacités optoélectroniques: Le film 3C-SiC présente également des caractéristiques optoélectroniques uniques, particulièrement utiles pour les détecteurs ultraviolets et diverses autres applications optoélectroniques. Avantages du nouveau substrat 4H/6H-P 3C-N SiC Mobilité électronique et résistance à la décomposition plus élevéesLe3C-N SiCLe film assure une stabilité et une efficacité supérieures dans les appareils à haute puissance et à haute fréquence, ce qui se traduit par une durée de vie plus longue et des performances plus élevées. Amélioration de la conductivité thermique et de la stabilité: Avec des capacités de dissipation de chaleur améliorées et une stabilité à température élevée (plus de 1000°C), le substrat est bien adapté aux applications à haute température. Applications optoélectroniques étendues: Les propriétés optoélectroniques du substrat élargissent son champ d'application, le rendant idéal pour les capteurs ultraviolets et autres appareils optoélectroniques avancés. Augmentation de la durabilité chimique: Le nouveau substrat présente une plus grande résistance à la corrosion chimique et à l'oxydation, ce qui est essentiel pour une utilisation dans des environnements industriels difficiles. Domaines d'application Le4H/6H-P 3C-N SiCLe substrat est idéal pour un large éventail d'applications de pointe en raison de ses propriétés électriques, thermiques et optoélectroniques avancées: Électronique de puissance: Sa tension de rupture supérieure et sa gestion thermique en font le substrat de choix pour les appareils de haute puissance tels que:Les MOSFET,Les IGBT, etDiodes de Schottky. Appareils à RF et à micro-ondes: La grande mobilité des électrons assure des performances exceptionnelles en haute fréquenceRFetappareils à micro-ondes. Détecteurs ultraviolets et optoélectronique: Les propriétés optoélectroniques de3C-SiCle rendre particulièrement adapté auxDétection UVet divers capteurs optoélectroniques. Conclusion et recommandation du produit Le lancement de la ZMSH4H/6H-P 3C-N SiCCe produit innovant, avec sa mobilité électronique améliorée, sa densité de défaut réduite,et une amélioration de la tension de rupture, est bien placée pour répondre aux demandes croissantes des marchés de la puissance, de la fréquence et de l'optoélectronique.Sa stabilité à long terme dans des conditions extrêmes en fait également un choix très fiable pour une gamme d'applications. La ZMSH encourage ses clients à adopter les4H/6H-P 3C-N SiCle substrat pour tirer parti de ses capacités de performance de pointe.Ce produit répond non seulement aux exigences strictes des appareils de nouvelle génération, mais aide également les clients à obtenir un avantage concurrentiel sur un marché en évolution rapide.   Recommandation de produit   Substrate SiC de type N de 3C de 4 pouces Substrate de carbure de silicium épais de 350um de qualité primaire de qualité factice       - supporter les personnalisés avec des illustrations de design   - un cristal cube (3C SiC), fabriqué à partir de monocristal SiC   - Haute dureté, dureté de Mohs atteint 9.2, juste derrière le diamant.   - une excellente conductivité thermique, adaptée aux environnements à haute température.   - des caractéristiques de large bande passante, adaptées aux appareils électroniques à haute fréquence et à haute puissance.
La montre en saphir n'est pas une mauvaise appellation!
   Le saphir n'est pas une mauvaise appellation!         Les amateurs de montres connaissent certainement le terme "cristal de saphir"," comme la grande majorité des modèles de montres bien connus, à l'exception des pièces d'inspiration vintage, présentent presque universellement ce matériau dans leurs spécificationsCela soulève trois questions clés:     1Le saphir est-il précieux? 2Est-ce qu'un verre de montre en cristal de saphir est vraiment en saphir? 3Pourquoi utiliser du saphir?       En réalité, le saphir utilisé dans l'horlogerie n'est pas la même chose que la pierre précieuse naturelle au sens traditionnel.qui est un saphir synthétique composé principalement d'oxyde d'aluminium (Al2O3)Comme aucun colorant n'est ajouté, le saphir synthétique est incolore.         Du point de vue chimique et structurel, il n'y a pas de différence entre le saphir naturel et le saphir synthétique.   La raison pour laquelle les grandes marques de montres privilégient unanimement le cristal de saphir pour les lunettes de montre n'est pas seulement parce qu'il sonne haut de gamme, mais principalement en raison de ses propriétés exceptionnelles:       - Dureté: Le saphir synthétique est comparable au saphir naturel à 9 sur l'échelle de Mohs, second seulement au diamant, ce qui le rend très résistant aux rayures (contrairement à l'acrylique, qui peut facilement se rayer).   - Durabilité: résistant à la corrosion, résistant à la chaleur et très conducteur thermique.   - Clarté optique: le cristal de saphir offre une transparence exceptionnelle, ce qui en fait sans doute le matériau idéal pour l'horlogerie moderne.         L'utilisation du cristal de saphir dans l'horlogerie a commencé dans les années 1960 et s'est rapidement répandue.Au cours des décennies suivantes, il est devenu la norme pour les montres modernes, et aujourd'hui,C' est pratiquement le seul choix en horlogerie haut de gamme.       Puis, en 2011, le saphir est redevenu une sensation dans l'industrie horlogère de luxe quand RICHARD MILLE a dévoilé le RM 056,doté d'un boîtier en saphir totalement transparent, une innovation sans précédent dans l'horlogerie haut de gammeBeaucoup de marques ont rapidement réalisé que le saphir n'était pas seulement pour les cristaux de montres, il pouvait également être utilisé pour les étuis, et il avait l'air magnifique.           En quelques années seulement, les étuis en saphir sont devenus une tendance, passant d'une transparence claire à des couleurs vives, ce qui a donné lieu à des conceptions de plus en plus diverses.montres à boîtier en saphir passées d'une édition limitée à des modèles de production régulière, et même des collections de base.   Alors aujourd'hui, jetons un coup d'œil à certaines des montres à boîtier en saphir.     - Je vous en prie.     Tourbillon de pureté Ce Tourbillon Purité de l'horloger indépendant suisse ArtyA est doté d'un design hautement squelettique et d'un boîtier transparent en saphir,maximiser l'impact visuel du tourbillon, comme son nom l'indiqueLe tourbillon est pur.     BELL & ROSS     BR-X1 Chronographe Tourbillon Saphir En 2016, Bell & Ross a lancé sa première montre en saphir, la BR-X1 Chronograph Tourbillon Sapphire, limitée à seulement 5 pièces et au prix de plus de 400 000 €.Ils ont publié une version encore plus transparente.Puis, en 2021, ils ont introduit le BR 01 Cyber Skull Sapphire, avec leur motif de crâne signature dans un boîtier carré gras.         La Belgique   L-Évolution À proprement parler, le minuteur L-Evolution de Blancpain, le Carillon Sapphire, n'a pas de boîtier en saphir.Mais ses ponts transparents en saphir et ses fenêtres latérales créent un effet de transparence frappant..     CHANEL           J12 Rayon X Pour le 20e anniversaire de la J12, Chanel a dévoilé la J12 X-RAY.réaliser un look totalement transparent et visuellement époustouflant.             Les produits     L.U.C. Full Strike Sapphire est un joueur de football américain. Sorti en 2022, le L.U.C Full Strike Sapphire de Chopard a été le premier répéteur de minute avec un boîtier en saphir.La montre a également remporté le Poinçon de Genève, la première montre non métallique à le faire.     Les produits visés à l'article 1er ne doivent pas être présentés dans le commerce.     Le quasar En 2019, Girard-Perregaux a présenté sa première montre à boîtier en saphir, le Quasar, avec son design emblématique "Three Bridges".La collection Laureato Absolute a présenté son premier modèle en saphir en 2020, aux côtés de l'hommage absolu du lauréat avec un boîtier rouge transparent, mais pas de saphir, mais d'un nouveau matériau polycristallin appelé YAG (granat d'aluminium d'yttrium).         Je vous en prie.     30° Double tourbillon saphir Le 30° Double Tourbillon Sapphire de Greubel Forsey se distingue par le fait que le boîtier et la couronne sont tous deux en cristal de saphir.dispose de quatre barils couplés en série pour 120 heures de réserve de marcheLe prix est de plus d'un million, limité à 8 pièces.     JACOB & CO.     L'astronomie parfaite Pour montrer pleinement le mouvement à remontage manuel JCAM24, Jacob & Co. a créé l'Astronomia Flawless avec un boîtier entièrement en saphir.     Je ne peux pas.     En tant que créateur de tendances en matière de coffres en saphir, RICHARD MILLE maîtrise le matériau. Que ce soit dans les montres pour hommes ou pour femmes, ou dans les montres complexes, les coffres en saphir sont une signature.RICHARD MILLE met également l'accent sur les variations de couleur, en faisant leurs montres en saphir ultra à la mode.       Du saphir aux étuis en saphir, ce matériau est devenu un symbole de l'innovation horlogère haut de gamme.

2025

05/29

La découpe laser deviendra la technologie dominante pour couper le carbure de silicium de 8 pouces à l'avenir - une interview avec le professeur Xiu Xiangqian de l'Université de Nanjing
  La découpe laser deviendra la technologie dominante pour couper le carbure de silicium de 8 pouces dans le futur       Q: Quelles sont les principales technologies pour le traitement de la découpe du carbure de silicium?   R: La dureté du carbure de silicium n'est que la seconde après celle du diamant, et il s'agit d'un matériau très dur et fragile.Le processus de découpe des cristaux en feuilles prend beaucoup de temps et est sujet aux fissuresEn tant que premier procédé de transformation des monocristaux de carbure de silicium, le rendement de la découpe détermine les niveaux de broyage, de polissage, d'amincissement et autres de transformation suivants.Le traitement par découpe est sujet à provoquer des fissures à la surface et sous la surface de la gaufre, augmentant le taux de rupture et le coût de fabrication de la gaufre.contrôler les dommages causés par les fissures de surface lors de la découpe de la gaufre est d'une grande importance pour promouvoir le développement de la technologie de fabrication de dispositifs au carbure de siliciumLes technologies de traitement des tranches de carbure de silicium présentées actuellement comprennent principalement la consolidation, la tranche à l'abrasif libre, la découpe laser, la séparation à froid et la tranche à décharge électrique.dont la découpe à plusieurs fils abrasifs à diamants consolidés à commutation est la méthode la plus couramment utilisée pour le traitement des cristaux simples de carbure de siliciumLorsque la taille du lingot de cristal atteint 8 pouces ou plus, les exigences en matière d'équipement de coupe de fil sont très élevées, le coût est également très élevé et l'efficacité est trop faible.Il est urgent de développer de nouvelles technologies de coupe à faible coût, faible perte et haut rendement.       Le lingot de cristal SiC de ZMSH       Q: Quels sont les avantages de la technologie de découpe laser par rapport à la technologie traditionnelle de découpe multi-fil? R: Dans le procédé traditionnel de découpe du fil, les lingots de carbure de silicium doivent être coupés dans une certaine direction en feuilles minces d'une épaisseur de plusieurs centaines de microns.Ces feuilles sont ensuite broyées avec le liquide de meulage de diamant pour éliminer les marques d'outil et les dommages de fissure sous-surface de surface et atteindre l'épaisseur requiseAprès cela, le polissage CMP est effectué pour obtenir une planarisation globale, et enfin, les plaquettes de carbure de silicium sont nettoyées.En raison du fait que le carbure de silicium est un matériau de haute dureté et fragile, il est susceptible de se déformer et de se fissurer lors de la découpe, du broyage et du polissage, ce qui augmente le taux de rupture de la gaufre et le coût de fabrication.la rugosité de surface et d'interface est élevéeEn outre, le cycle de traitement de coupe multifil est long et le rendement est faible.On estime que la méthode traditionnelle de coupe multi-fil a un taux d'utilisation globale du matériau de seulement 50%Les premières statistiques de production provenant de l'étranger montrent qu'avec une production parallèle continue de 24 heures, le taux de perte de coupe est de 75%.Il faut environ 273 jours pour produire 101000 pièces, ce qui est relativement long. À l'heure actuelle, la plupart des entreprises nationales de croissance des cristaux de carbure de silicium adoptent l'approche de "comment augmenter la production" et augmentent considérablement le nombre de fours de croissance des cristaux.lorsque la technologie de croissance des cristaux n'est pas encore complètement mûre et que le rendement est relativement faibleL'adoption d'équipements de découpe laser peut réduire considérablement les pertes et augmenter l'efficacité de la production.en prenant comme exemple un seul lingot de SiC de 20 mmDans le même temps, 30 plaquettes de 350 mm peuvent être produites à l'aide d'une scie à fil, tandis que plus de 50 plaquettes peuvent être produites à l'aide de la technologie de découpe laser.en raison des meilleures caractéristiques géométriques des gaufres produites par découpe laserEn effet, l'épaisseur d'une seule gaufre peut être réduite à 200 mm, ce qui augmente encore le nombre de gaufres.La technologie traditionnelle de coupe multi-fil a été largement appliquée dans le carbure de silicium de 6 pouces et en dessousCependant, il faut 10 à 15 jours pour couper le carbure de silicium de 8 pouces, qui a des exigences élevées pour l'équipement, un coût élevé et une faible efficacité.Les avantages techniques de la découpe laser de grande taille deviennent évidents et il deviendra la technologie dominante pour la découpe de 8 pouces dans le futurLa découpe au laser de lingots de carbure de silicium de 8 pouces permet de réaliser un temps de découpe d'une seule pièce de moins de 20 minutes par pièce, tandis que la perte de coupe d'une seule pièce est contrôlée à 60 mm.       Le lingot de cristal SiC de ZMSH     Dans l'ensemble, la technologie de découpe laser présente des avantages tels qu'une efficacité et une vitesse élevées, un taux de découpe élevé, une faible perte de matériau et une propreté. Q: Quelles sont les principales difficultés rencontrées par la technologie de découpe laser au carbure de silicium? R: Le procédé principal de la technologie de découpe au laser du carbure de silicium consiste en deux étapes: la modification au laser et la séparation des plaquettes. Le noyau de la modification laser est de façonner et d'optimiser le faisceau laser.et la vitesse de numérisation affecteront tous l'effet de la modification de l'ablation du carbure de silicium et la séparation ultérieure de la gaufreLes dimensions géométriques de la zone de modification déterminent la rugosité de la surface et la difficulté de séparation qui en résulte.Une rugosité de surface élevée augmentera la difficulté du broyage ultérieur et augmentera la perte de matière. Après la modification au laser, la séparation des plaquettes repose principalement sur la force de cisaillement pour décoller les plaquettes coupées des lingots, comme le fissurage à froid et la force de traction mécanique.La recherche et le développement des fabricants nationaux utilisent principalement des capteurs à ultrasons pour séparer par vibration, ce qui peut entraîner des problèmes tels que la fragmentation et le déchiquetage, réduisant ainsi le rendement des produits finis.   Les deux étapes ci-dessus ne devraient pas poser de difficultés importantes pour la plupart des unités de recherche et développement.en raison des différents procédés et du dopage des lingots cristallins de différents fabricants de croissance cristallineLa qualité des lingots de cristal varie considérablement ou, si le dopage interne et la contrainte d'un lingot de cristal unique sont inégaux, cela augmentera la difficulté de découpe du lingot de cristal,augmenter les pertes et réduire le rendement des produits finisLa simple identification par diverses méthodes de détection, puis la découpe par balayage laser en zone, n'ont peutêtre pas d'effet significatif sur l'amélioration de l'efficacité et de la qualité des tranches.Comment développer des méthodes et des technologies innovantes, optimiser les paramètres du processus de découpe,et développer des équipements et des technologies de découpe laser avec des procédés universels pour les lingots cristallins de différentes qualités de différents fabricants est le cœur de l'application à grande échelle.   Q: Outre le carbure de silicium, la technologie de découpe laser peut-elle être appliquée à la découpe d'autres matériaux semi-conducteurs? R: La première technologie de découpe laser a été appliquée dans divers domaines des matériaux.Il s'est étendu à la découpe de grandes cristaux simples.En plus du carbure de silicium, il peut également être utilisé pour couper des matériaux de haute dureté ou fragiles tels que des matériaux monocristallins tels que le diamant, le nitrure de gallium et l'oxyde de gallium.L'équipe de l'université de Nanjing a fait beaucoup de travail préliminaire sur la découpe de ces plusieurs semi-conducteurs monocristallins, pour vérifier la faisabilité et les avantages de la technologie de découpe laser pour les monocristaux semi-conducteurs.       La gaufre Diamond et la gaufre GaN de ZMSH       Q: Y a-t-il actuellement des produits d'équipement de découpe laser matures dans notre pays?   R: Les équipements de découpe laser de carbure de silicium de grande taille sont considérés par l'industrie comme le principal équipement pour découper les lingots de carbure de silicium de 8 pouces à l'avenir.Les équipements de découpe laser de lingots de carbure de silicium de grande taille ne peuvent être fournis que par le Japon.Il est coûteux et soumis à un embargo contre la Chine. Selon les recherches, la demande intérieure d'équipements de découpe/dilution au laser est estimée à environ 1,000 unités en fonction du nombre d'unités de coupe de fil et de la capacité prévue de carbure de siliciumÀ l'heure actuelle, des sociétés nationales comme Han's Laser, Delong Laser et Jiangsu General ont investi d'énormes sommes d'argent dans le développement de produits connexes.mais aucun équipement commercial domestique mature n'a encore été appliqué dans les lignes de production.   Dès 2001, the team led by Academician Zhang Rong and Professor Xiu Xiangqian from Nanjing University developed a laser exfoliation technology for gallium nitride substrates with independent intellectual property rightsAu cours de l'année écoulée, nous avons appliqué cette technologie à la découpe et au raffinage au laser de carbure de silicium de grande taille.Nous avons terminé le développement de prototypes d'équipements et de découpe de processus de recherche et développement, réalisant la découpe et l'amincissement de plaquettes de carbure de silicium semi-isolateur de 4-6 pouces et la découpe de lingots de carbure de silicium conducteurs de 6-8 pouces.Le temps de coupe pour le carbure de silicium semi-isolateur de 6-8 pouces est de 10-15 minutes par trancheLe temps de coupe en une seule pièce pour les lingots de carbure de silicium conducteurs de 6 à 8 pouces est de 14 à 20 minutes par pièce, avec une perte en une seule pièce inférieure à 60 μm.On estime que le taux de production peut être augmenté de plus de 50%Après coupage, broyage et polissage, les paramètres géométriques des plaquettes de carbure de silicium sont conformes aux normes nationales.Les résultats de la recherche montrent également que l'effet thermique lors de la découpe au laser n'a aucune influence significative sur les contraintes et les paramètres géométriques du carbure de siliciumEn utilisant cet équipement, nous avons également mené une étude de vérification de faisabilité sur la technologie de découpe de cristaux simples de diamant, de nitrure de gallium et d'oxyde de gallium.     En tant que leader innovant dans la technologie de traitement des plaquettes de carbure de silicium, ZMSH a pris l'initiative de maîtriser la technologie de base de la découpe laser de carbure de silicium de 8 pouces.Grâce à son système de modulation laser de haute précision développé indépendamment et à sa technologie de gestion thermique intelligente, il a réussi une percée dans l'industrie en augmentant la vitesse de coupe de plus de 50% et en réduisant la perte de matériau à moins de 100 μm.Notre solution de découpe laser utilise des lasers à impulsions ultra-coureuses ultraviolettes en combinaison avec un système optique adaptatif, qui peut contrôler avec précision la profondeur de coupe et la zone affectée par la chaleur, ce qui garantit que le TTV de la plaque est contrôlé à moins de 5 μm et que la densité de dislocation est inférieure à 103 cm−2,fournir un soutien technique fiable pour la production en série à grande échelle de substrats en carbure de silicium de 8 poucesÀ l'heure actuelle, cette technologie a passé la vérification automobile et est appliquée industriellement dans les domaines de la nouvelle énergie et de la communication 5G.       Le type de ZMSH SiC 4H-N & SEMI est le suivant:               * Veuillez nous contacter pour toute préoccupation concernant les droits d'auteur, et nous y répondrons rapidement.          

2025

05/23

Prédiction et défis des semi-conducteurs de cinquième génération
Prédiction et défis des semi-conducteurs de cinquième génération     Les semi-conducteurs sont la pierre angulaire de l'ère de l'information, et l'itération de leurs matériaux détermine directement les limites de la technologie humaine.De la première génération de semi-conducteurs à base de silicium à la quatrième génération actuelle de matériaux à bande passante ultra large, chaque génération d'innovation a conduit à un développement vertigineux dans des domaines tels que la communication, l'énergie et l'informatique.En analysant les caractéristiques des matériaux semi-conducteurs de quatrième génération et la logique du remplacement générationnel, les directions possibles des semi-conducteurs de cinquième génération sont spéculées, et en même temps, la voie de percée pour la Chine dans ce domaine est explorée.       I. Caractéristiques des matériaux semi-conducteurs de quatrième génération et logique du remplacement générationnel         L'"ère fondatrice" de la première génération de semi-conducteurs: le silicium et le germanium     Caractéristiques:Les semi-conducteurs élémentaires représentés par le silicium (Si) et le germanium (Ge) présentent les avantages d'un faible coût, d'un procédé mature et d'une fiabilité élevée.Ils sont limités par la largeur de bande relativement étroite (Si: 1,12 eV, Ge: 0,67 eV), ce qui entraîne une faible tension de résistance et des performances insuffisantes à haute fréquence. Applications:Circuits intégrés, cellules solaires, appareils basse tension et basse fréquence. La raison du changement de génération:Avec la demande croissante de performances à haute fréquence et à haute température dans les domaines de la communication et de l'optoélectronique, les matériaux à base de silicium sont progressivement incapables de répondre aux demandes.         Les plaquettes optiques Ge Windows et Si de ZMSH         Les semi-conducteurs de deuxième génération: la "révolution optoélectronique" des semi-conducteurs composés   Caractéristiques:Les composés du groupe III-V représentés par l'arsenure de gallium (GaAs) et le phosphure d'indium (InP) présentent une largeur de bande accrue (GaAs: 1,42 eV), une grande mobilité électronique,et sont adaptés à la conversion à haute fréquence et photoélectrique. Applications:Des appareils de radiofréquence 5G, des lasers, des communications par satellite. Les défis:Les matériaux sont rares (réserves d'indium de seulement 0,001%), les coûts de préparation élevés et la présence d'éléments toxiques (comme l'arsenic). La raison du remplacement des générations:Les nouveaux équipements d'énergie et de haute tension ont posé des exigences plus élevées en matière de résistance et d'efficacité de la tension, ce qui a conduit à l'émergence de matériaux à large bande passante.       Les plaquettes GaAs et InP de ZMSH       Les semi-conducteurs de troisième génération: la "révolution de l'énergie" avec une large bande passante   Caractéristiques:Avec le carbure de silicium (SiC) et le nitrure de gallium (GaN) comme noyau, la largeur de la bande passante est significativement augmentée (SiC: 3,2 eV, GaN: 3,4 eV), avec un champ électrique à forte décomposition,conductivité thermique élevée et caractéristiques de haute fréquence. Applications:Systèmes d'entraînement électriques pour les véhicules à énergie nouvelle, onduleurs photovoltaïques, stations de base 5G. Les avantages:La consommation d'énergie est réduite de plus de 50% par rapport aux appareils à base de silicium et le volume est réduit de 70%. La raison du remplacement des générations:Des domaines émergents tels que l'intelligence artificielle et l'informatique quantique nécessitent des matériaux plus performants pour le support, et des matériaux à bande passante ultra-large ont émergé comme le Times l'exige.       Les plaquettes SiC et GaN de ZMSH       Les semi-conducteurs de quatrième génération: la " percée extrême " de l'ultra large bande   Caractéristiques:Représenté par l'oxyde de gallium (Ga2O3) et le diamant (C), la largeur de bande a été encore augmentée (oxyde de gallium: 4,8 eV), avec à la fois une résistance à entrée ultra-faible et une tension de résistance ultra-haute,et ayant un potentiel de coût énorme. Applications:Des puces électriques à ultra-haute tension, des détecteurs ultraviolets profonds, des dispositifs de communication quantique. Découverte:Les dispositifs à oxyde de gallium peuvent résister à des tensions supérieures à 8000 V et leur efficacité est trois fois supérieure à celle du SiC. La logique du remplacement des générations:La poursuite mondiale de la puissance de calcul et de l'efficacité énergétique a atteint sa limite physique, et de nouveaux matériaux doivent atteindre des sauts de performance à l'échelle quantique.       La plaque Ga2O3 de ZMSH et GaN On Diamond         II. Tendances des semi-conducteurs de cinquième génération: le "projet d'action futur" des matériaux quantiques et des structures bidimensionnelles       Si la voie évolutive de l'"expansion de la largeur de bande + intégration fonctionnelle" se poursuit, les semi-conducteurs de cinquième génération peuvent se concentrer sur les directions suivantes: 1) Isolateur topologique:Avec ses caractéristiques de conductivité de surface et d'isolation interne, il peut être utilisé pour construire des appareils électroniques à énergie zéro,briser le goulot d'étranglement de la production de chaleur des semi-conducteurs traditionnels. 2) Matériaux bidimensionnels:Le graphène et le disulfure de molybdène (MoS2), avec une épaisseur au niveau atomique, donnent une réponse à très haute fréquence et un potentiel électronique flexible. 3) Points quantiques et cristaux photoniques:En régulant la structure de bande par l'effet de confinement quantique, l'intégration multifonctionnelle de la lumière, de l'électricité et de la chaleur est réalisée. 4) Biosémiconducteurs:Matériaux autoassemblables à base d'ADN ou de protéines, compatibles avec les systèmes biologiques et les circuits électroniques. 5) Les forces motrices principales:La demande de technologies disruptives telles que l'intelligence artificielle, les interfaces cerveau-ordinateur,et la supraconductivité à température ambiante favorisent l'évolution des semi-conducteurs vers l'intelligence et la biocompatibilité.       Les opportunités pour l'industrie chinoise des semi-conducteurs: de " suivre " à " suivre le rythme "       1) Les percées technologiques et la structure de la chaîne industrielle · Les semi-conducteurs de troisième génération:La Chine a réalisé une production de masse de substrats SiC de 8 pouces, et les MOSFET SiC de qualité automobile ont été appliqués avec succès dans des constructeurs automobiles tels que BYD. · Les semi-conducteurs de quatrième génération:L'Université des Postes et Télécommunications de Xi'an et le 46e Institut de Recherche du Groupe de Technologie électronique de Chine ont découvert la technologie épitaxielle de 8 pouces d'oxyde de gallium,entrer dans le premier échelon du monde.     2) Appui politique et en capital ·Le quatorzième plan quinquennal du pays a énuméré les semi-conducteurs de troisième génération comme un objectif clé, et les gouvernements locaux ont créé des fonds industriels d'une valeur de plus de 10 milliards de yuans. ·Parmi les dix meilleurs progrès technologiques en 2024, des réalisations telles que des appareils à nitrure de gallium de 6 à 8 pouces et des transistors à oxyde de gallium ont été sélectionnées.démontrant une tendance révolutionnaire dans toute la chaîne industrielle.       IV. Les défis et la voie à parcourir       1) Goulots d'étranglement techniques · Préparation du matériel:Le rendement de la croissance de cristaux simples de grande taille est faible (par exemple, l'oxyde de gallium est sujet à la fissuration) et la difficulté de contrôle des défauts est élevée. · Fiabilité du dispositif:Les normes d'essai de durée de vie sous haute fréquence et haute tension ne sont pas encore terminées, et le cycle de certification des dispositifs automobiles est long.       2) Lacunes dans la chaîne industrielle · Les équipements haut de gamme dépendent des importations:Par exemple, le taux de production intérieure de fours de croissance de cristaux de carbure de silicium est inférieur à 20%. · Écosystème d'application faible:Les entreprises en aval préfèrent les composants importés et la substitution nationale nécessite des orientations politiques.     3) Développement stratégique 1- collaboration entre l'industrie et l'université:S'appuyant sur le modèle de "Third Generation Semiconductor Alliance",nous nous joindrons aux universités (comme l'Université du Zhejiang, l'Institut de technologie de Ningbo) et aux entreprises pour lutter contre les technologies de base. 2La concurrence différenciée:Concentrez-vous sur les marchés progressifs tels que les nouvelles énergies et les communications quantiques, et évitez la confrontation directe avec les géants traditionnels. 3- Cultivation des talents:Mettre en place un fonds spécial pour attirer les meilleurs chercheurs étrangers et promouvoir la construction de la discipline "Chip Science and Engineering".   Du silicium à l'oxyde de gallium, l'évolution des semi-conducteurs est une épopée de l'humanité qui franchit les limites physiques.Si la Chine peut saisir la fenêtre d'opportunité des semi-conducteurs de quatrième génération et faire des plans pour la cinquième génération de matériauxComme l'a déclaré l'académicien Yang Deren, "la véritable innovation exige le courage de prendre des chemins inexplorés." Sur ce sentier, la résonance de la politique, du capital et de la technologie déterminera le vaste océan de l'industrie chinoise des semi-conducteurs.     ZMSH, en tant que fournisseur dans le secteur des matériaux semi-conducteurs,a établi une présence globale dans toute la chaîne d'approvisionnement, allant des plaquettes de silicium/germanium de première génération aux films minces d'oxyde de gallium et de diamant de quatrième générationLa société se concentre sur l'amélioration de la production de masse de composants semi-conducteurs de troisième génération tels que des substrats de carbure de silicium et des plaquettes épitaxielles de nitrure de gallium.tout en faisant progresser en parallèle ses réserves techniques dans la préparation de cristaux pour les matériaux à bande ultra largeEn tirant parti d'un système verticalement intégré de R&D, de croissance des cristaux et de traitement, ZMSH fournit des solutions de matériaux personnalisées pour les stations de base 5G, les nouveaux appareils de puissance énergétique et les systèmes laser UV.La société a développé une structure de capacité de production graduée allant des plaquettes d'arsenure de gallium de 6 pouces aux plaquettes de carbure de silicium de 12 pouces, contribuant activement à l'objectif stratégique de la Chine consistant à construire une base matérielle autonome et contrôlable pour la compétitivité des semi-conducteurs de nouvelle génération.       La gaufre en saphir de 12 pouces de ZMSH et la gaufre en SiC de 12 pouces:           * Veuillez nous contacter pour toute préoccupation concernant les droits d'auteur, et nous y répondrons rapidement.            

2025

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